2026-68
雙光子設備是依托雙光子吸收效應研發的高精度光電科研設備，主要分為雙光子顯微成像系統與雙光子微納加工系統兩大類型，是生命科學、材料工程、精密制造領域的核心裝置。該設備利用近紅外飛秒激光實現非線性光學激發，突破了傳統單光子成像與加工的技術局限，可在不損傷活體樣本、不破壞材料表層結構的前提下，完成深層成像與三維微納結構加工，是微觀領域精細化研究與精密制備的重要工具。傳統光學設備多采用單光子激發模式，存在光損傷大、成像深度淺、背景干擾多、易出現光漂白等問題，難以適配活體動態觀測、厚組...
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三維激光直寫設備是一種基于激光光刻技術，在光敏材料中直接加工出三維微納結構的精密制造儀器。與傳統的掩模光刻不同，該設備無需制作物理掩模版，而是通過計算機控制的聚焦激光束在光刻膠內按照預設三維軌跡進行掃描曝光，顯影后即可獲得連續、光滑的二維或三維微結構。在微機電系統、微光學元件、生物芯片、微流控器件以及組織工程支架等領域，三維激光直寫設備為復雜微結構的快速原型制作提供了一種較為靈活的加工手段。該技術因其無需掩模、設計修改方便、加工分辨率可達亞微米級別的特點，在科研院所和制造業中...
查看更多2026-528
微納制造是面向微米、納米尺度的精密加工與成型技術，是現代制造領域的重要分支。不同于傳統宏觀制造工藝，微納制造主要針對微小結構、精密器件、超薄涂層、微通道組件等微觀產品進行加工制備，通過精密工藝控制，實現材料在微觀尺度下的塑形、改性與組裝。該技術涵蓋微機械加工、納米鍍膜、光刻、微成型、精密刻蝕等多種工藝體系，是銜接基礎材料科學與裝備產業的關鍵技術。隨著科技產業向小型化、精密化、集成化方向發展，傳統制造工藝已經難以滿足微型器件、高精度零部件的生產需求。微納制造技術可以在極小的空間...
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無掩膜光刻是一類無需物理掩模版的光刻技術，通過數字方式直接控制光束，將設計圖案投射或直寫至涂有光刻膠的基底表面，完成微納圖形加工。作為傳統光刻的重要補充，它省去了掩模制作、對準等環節，憑借高靈活性與短周期優勢，成為科研與小批量制造的核心技術，適配半導體、微流控、光學器件等多個領域。無掩膜光刻的核心價值在于打破傳統光刻對固定掩模版的依賴，實現“設計即制造”的數字化加工。其技術路徑多元，主流包括激光直寫、數字微鏡器件（DMD）投影、電子束直寫等，不同路線在分辨率、效率上各有側重，...
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近日，在“2025年山東省智能裝備產業創新發展交流活動暨2025年度（第六屆）山東省裝備制造業科技創新發展大會”上，魔技納米憑借“微納三維制造及其光敏材料關鍵技術及應用”項目的突破性技術創新與顯著產業價值，成功摘得“2025年度山東省裝備制造業科技創新獎一等獎”！這是我司該成果繼2025年7月斬獲“山東省工程師協會工程科學技術獎一等獎”、9月獲評“2024年度中國好技術A類”及“山東電子學會科學技術獎二等獎”后，科技實力再獲省級認證！魔技納米團隊深耕微納制造十余年，此次獲獎的...
查看更多2025-915
雙展聯動構建“光電子+半導體”融合生態9月10-12日，第26屆中國國際光電博覽會（CIOE）與SEMI-e深圳國際半導體展在深圳國際會展中心同期舉辦，雙展在展示內容、觀眾群體上深度融合，可一站式洞悉“光電器件-半導體制造-芯片”全產業鏈創新。在此次雙展聯動的契機下，魔技納米精心籌備，攜更豐富的產品系列與nanoboostprinter前沿技術強勢亮相，展示企業在跨尺度微納加工領域的成就，成為展會中備受矚目的焦點。魔技納米現場盛況向左滑動查看魔技現場魔技納米三大產品系列魔技納...
查看更多2025-94
微納3D打印（Micro/Nano3DPrinting）是一種通過逐層添加材料的方式，在微米或納米尺度上制造三維物體的技術。與傳統的3D打印技術不同，微納3D打印技術能夠在極其精細的尺度上進行高精度打印，通常應用于微小尺寸的物體、結構以及高性能功能材料的制造。1.基本概念微納3D打印是基于增材制造（AdditiveManufacturing,AM）原理，采用數字化設計，通過層層疊加材料的方式逐步構建出三維物體。其最大的特點在于精度和分辨率，可以在微米甚至納米尺度上制造具有復雜...
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三維激光直寫系統是一種先進的微納加工技術，它利用高度聚焦的激光束在材料表面或內部進行精確的圖案化處理。這種技術能夠在不需要掩膜的情況下直接根據計算機輔助設計（CAD）模型制造出復雜的三維微觀結構，因此在微電子學、光子學、生物醫學工程、納米科技等領域有著廣泛的應用前景。工作原理三維激光直寫系統通常使用飛秒激光器或皮秒激光器產生超短脈沖激光。這些激光脈沖具有高的峰值功率和非常短的作用時間，可以在不影響周圍材料的情況下實現對焦點處材料的精確改性或去除。通過精密控制激光束的位置和強度...
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